Госреестр № 61998-15
Для измерения содержания компонентов ионной природы (анионов и катионов), а также соединений, которые могут быть переведены в ионную форму (кислоты, амины, гидразины, углеводы, аминокислоты, фенолы и др.) и других неорганических и органических соединений.
Система ICS-2100 — безреагентная хроматографическая система с электролитической пробоподготовкой (RFIC-ESP™ система) и генерированием элюента (RFIC-EG™ система), т.е с технологиями, разработанными для применения электролитически-генерируемых элюентов для всех видов изократического и градиентного разделения в ионной хроматографии с кондуктометрическим детектированием. Можно использовать колонки микро (2 мм) или стандартного формата (4 мм).
Система ICS-2100 RFIC-ESP теперь обеспечивает полную автоматизацию для множества типовых методов пробоподготовки с дополнительными кранами-переключателями и специальных электролитических устройств пробоподготовки.
Система ICS-2100 обеспечивает высокое качество работы, сочетая с простотой использования, благодаря устройствам AutoSuppression®, таким как подавители SRS® 300. Программное обеспечение Chromeleon® обеспечивает полное управление, контроль и цифровой сбор данных на ПК, используя USB соединения.
Моноблочный ионный хроматограф ICS-2100 — предназначен для выполнения всех типов изократических и градиентных ионнохроматографических анализов.
Установка «Caroline IE12» – полностью автоматизированная вакуумно-технологическая установка предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на керамических, кремниевых и любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках размером до Ø 150 мм. (максимальная плоскость...
Установка «Caroline D12A1» предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и другие подложки размером до Ø100 мм:установка имеет возможность установки либо 4-х магнетронов (например РС, хром, медь, никель), либо 3-х магнетронов и источника термического испарения и т.д.
Установка «Caroline D12A» предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и другие плоские подложки размером до Ø100 мм.
Установка комплектуется тремя или четырьмя магнетронами (например РС, хром, медь, никель), либо тремя магнетронами и источником термического испарения и т.д.;...
Установка полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин диаметром до 200 мм. снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения...
Укажите номер телефона на который перезвоинть и ваше имя.