Автоматизированная установка магнетронного напыления Caroline D12B

Вакуумно-технологические автоматизированные установки Caroline D12B2  предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки размером до Ø150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×350 мм.)

Установка...

Установка «Caroline D12С» – полностью автоматизированная вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×650 мм).

Установка...

Установка «Caroline D12A1» предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и другие подложки размером до Ø100 мм:установка имеет возможность установки либо 4-х магнетронов (например РС, хром, медь, никель), либо 3-х магнетронов и источника термического испарения и т.д.

Установка «Caroline D12A» предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и другие плоские подложки размером до Ø100 мм.

Установка комплектуется тремя или четырьмя магнетронами (например РС, хром, медь, никель), либо тремя магнетронами и источником термического испарения и т.д.;...

Компания ТИТАН реализует б/у оборудование:
1.) Катод-IМ - установка магнетронного распыления б/у, год выпуска - 1989. Краткое описание: назначение - получение многослойных , резистивных и диэлектрических тонких плёнок из пяти материалов в одном цикле откачки; комплектное состояние, работоспособное;
2.) УНВ-71П-3 -...

Установка «Caroline D12B1» - полностью автоматическая установка магнетронного напыления, предназначена для магнетронного напыления на металлические изделия, такие как лопатки турбин, инструменты и другие изделия. Установка имеет 20 позиций вращения с максимальным диаметром 80 мм. и длиной до 400 мм.

Установка...

Установка «Caroline IE12» – полностью автоматизированная вакуумно-технологическая установка предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на керамических, кремниевых и любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках размером до Ø 150 мм. (максимальная плоскость...

Установка поштучной обработки пластин диаметром до 200 мм. снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.

В зависимости от...